1.涂層設備泄漏檢查的原因

太陽能單晶和多晶電池片在生產過程中應用PECVD沉積 Si3N3.設備需要在4-5天內進行維護（清潔）MASK,更換支架等。)，因為它是清潔設備的內部，所以失效的可能性. 如果涂層設備的密封性不好，涂層產品的膜厚會不均勻，產品周圍的膜參數會不合格.

涂層設備維護完成后，可進行泄漏檢查，避免產生許多不合格產品，達到節約生產成本的目的.

二、二裝設備氨質譜檢漏

1.啟動氨質檢漏儀，然后將檢漏儀內部的檢漏方法設置為停止不放氣。

2.按停止鍵，使檢漏儀處于待機狀態。

3.通過波紋管將泄漏檢測器的泄漏檢測口與真空爐或涂層機連接，并在波紋管一端增加真空手動擋板閥。

4.打開真空爐或涂層機本身的抽空系統，然后打開連接泄漏檢測器的高真空手動擋板閥。真空爐或涂層機的真空度為200Pa以下是真空度相對穩定后。

5.按下檢漏儀的‘開始’鍵，讓檢漏儀進入檢漏狀態。

6.檢漏儀顯示的漏率值相對穩定后，可噴氨檢漏真空爐或鍍膜機的可疑漏點。

7.檢漏后，先關閉高真空手動擋板閥，再按下檢漏儀的停止鍵，使檢漏儀處于待機狀態。

8.最后關閉真空爐或鍍膜機的抽空系統。

9.拆除與真空爐或涂層機連接的波紋管。關閉檢漏儀的電源。

三：可能出現的問題：

1.檢漏儀未設置停止不放氣，當檢漏儀停止時，會對真空爐或鍍膜機的真空系統產生大氣沖擊，容易損壞真空器件。

2.真空爐或涂層機內部的復雜結構會導致檢漏儀的底值較高，使小漏孔難以檢測。

3.如果真空爐或涂層機中有潤滑油或冷凝水等吸附氣體的物質，則噴入的氨會被吸附，泄漏檢測器無法檢測到氨。